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准二维钙钛矿R2(ABX3)n-1BX4聚合物片的**稳定发光 有机-无机杂化钙钛矿因其**的光电性能以及简单廉价的制备工艺在近几年里掀起了新的研究热潮，并已在太阳能电池、发光二极管、激光器和光催化等领域得到广泛研究与应用。然而钙钛矿材料对水氧、紫外线极为敏感，其较差的稳定性一直是制约商业化应用的主要障碍。准二维钙钛矿R2(ABX3)n-1BX4是采用大尺寸阳离子R部分取代小尺寸阳离子A，类似于将二维相与三维相掺杂，同时材料中存在天然形成的量子阱结构，在光电应用领域展现了巨大的潜力。 光电器件的制造依赖于能够实现**的图案化工艺，如掩模光刻、纳米压印和喷墨打印。喷墨打印是基于喷嘴中喷出的小体积液滴在基底上并且实现**定位的技术，可以实现图案的无接触加工和直接刻写，不需掩模板、基底材料也**灵活，适合钙钛矿基等光电显示器件的加工。 采用喷墨打印技术在三种商用聚合物PVC、PC和PMMA上获得了图案化的准二维钙钛矿-聚合物复合片材，并展现了稳定**的发光性能。准二维钙钛矿-聚合物片的PLQY超过65%，FWHM为22 nm，在水中和空气中分别暴露20天、50天，PL强度仍然保持初始值的80%；在强紫外线照射240小时后，PL仍然保持50%的强度。 图一 喷墨打印制备准二维钙钛矿片 (a) 喷墨打印制备准二维钙钛矿复合片示意图； (b-d) 不同的聚合物（PVC、PC和PMMA）薄片上印刷的图案照片。 图二 准二维钙钛矿片的光谱表征 (a-b) PEA-PVC/PC/PMMA的PL光谱和紫外可见吸收光谱； (c) 紫外灯下PEA-PVC的图像； (d) MA-PVC和PEA-PVC的PL光谱和紫外可见吸收光谱； (e) PVC、MA-PVC和PEA-PVC的透射光谱； (f) MA-PVC和PEA-PVC的TRPL光谱； (g) PEA-PVC的TA光谱； (h) PB2和PB3波长位置归一化的时间分辨TA光谱。 图三 钙钛矿-聚合物片在不同条件下的稳定性测试 (a) 在25 mW/cm2蓝光照射325 h下MA-PVC和PEA-PVC的PL强度和FWHM变化； (b) 在空气中放置50天MA-PVC和PEA-PVC的PL强度变化； (c) 在水中放置50天MA-PVC和PEA-PVC的PL强度变化； (d) 在不同溶液中的PEA-PVC样品。 图四 钙钛矿-聚合物片的大面积图案应用 紫外线照射下有图案的钙钛矿-聚合物复合片图像； (b) (a)中红色区域的微观荧光图像，其中黑色箭头表示喷嘴的移动方向； (c) (b)中蓝色扫描区域的深度剖面图。 采用喷墨打印技术在商用聚合物中嵌入准二维钙钛矿，由于其天然的量子阱结构，PLQY较MA-聚合物样品明显改善，超过65%。此外，PEA-PVC样品相较于其他聚合物样品展现了更为**的光学性能，印刷图案显示出更好的均匀性。