光电材料|Al/Cu厚度比和沉积顺序对射频磁控溅射PET基片上ZnO/Al/Cu/ZnO多层膜光电性能的影响
作者：NG体育 发布时间：2022-08-08 09:54:14
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采用射频磁控溅射技术在柔性聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)基片上制备了ZnO/Al/Cu/ZnO多层膜。中间体Al和Cu金属层的总厚度保持在8 nm。
四种不同的Al/Cu厚度比分别为7:1、6:2、5:3和4:4。其他四种参考样品采用相同的工艺制备，分别是ZnO单层膜、ZnO/Al8 (8 nm厚度的Al层，下同)/ZnO、ZnO/Cu8/ZnO和ZnO/Cu2/Al6/ZnO多层膜。
研究了Al/Cu层厚比和沉积顺序对Al、Cu层厚度的影响。
结果表明:随着Cu层厚度的增加，薄膜的片电阻减小，透光率先增大后减小;薄膜电阻为108 Ω/sq，平均可见光透过率为84.73%的ZnO/Al6/Cu2/ZnO多层膜具有**的整体光电性能，其最高优值为1.77 × 10-3 Ω-1。
此外，ZnO/Cu2/Al6/ZnO和ZnO/Al6/Cu2/ZnO多层膜的平均可见光透过率和薄膜电阻几乎相同，说明Al层和Cu层的沉积顺序对薄膜的光电性能影响不大。
结果表明，ZnO/Al/Cu/ZnO多层柔性薄膜在各个领域都具有广阔的应用前景。
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