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中文名称：单层氮化硼薄膜（HBN） 英文名称：Monolayer boron nitride film（HBN）   性质  覆盖率：100% 基底：Cu 晶粒尺寸：>4 um 单层率：大约80%   应用 HBN薄膜可被用作金属绝缘金属结构的超薄间隔层，以及电子的隧道阻挡层，使其具有广泛的应用，例如纳米电容器、场效应隧道晶体管。作为单分子膜还可被用作介质或基片。   其他信息 常温干燥避光密封保存，保存期限半年。